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首頁 >行業新聞 >半導體行業用純水設備的特點半導體行業對純水設備有著極高的要求,這些要求主要體現在設備的性能、水質純度、穩定性、自動化程度以及能效等方面。以下是對半導體行業用純水設備的詳細分析:
一、設備構成與工作原理
半導體行業常用的純水設備通常由預處理系統、反滲透系統和電去離子(EDI)系統構成。
1、預處理系統:主要目的是去除水中的懸浮物、膠體、有機物等雜質,為后續的反滲透和EDI系統提供合格的進水。預處理通常包括多介質過濾器、活性炭過濾器、軟化器等。
2、反滲透系統:利用反滲透膜的選擇透過性,去除水中的溶解性鹽類、有機物、細菌等雜質,得到較為純凈的水。反滲透膜具有高精度、高效率的特點,是制備純水的重要步驟。
3、電去離子(EDI)系統:在直流電場的作用下,通過隔板的水中電介質離子發生定向移動,利用交換膜對離子的選擇透過作用來對水質進行提純。EDI系統無需酸堿再生,具有環保、連續出水、水質穩定等優點,是制備超純水的關鍵步驟。
二、水質要求
1、高純度:要求純水中的電阻率極高,痕量金屬離子濃度、有機物含量和微生物污染極低,以滿足半導體生產中的清洗、化學反應和冷卻等應用需求。
2、穩定的水質:水質的穩定性對于保證半導體生產的一致性和產品質量至關重要。設備需要能夠持續提供符合特定標準的水,避免因水質波動或污染而影響產品質量。
三、應用領域
1、半導體制造:保證芯片質量和性能的關鍵環節之一
2、平板顯示器制造:用于清洗和加工平板顯示器部件,保證顯示器的質量和性能。
3、光電子器件制造:同樣需要高純度的超純水進行清洗和加工。
4、此外,在生物醫藥領域,半導體純水設備也可用于純化蛋白質、細胞培養等方面。
綜上所述,半導體行業用純水設備具有高效去離子和脫鹽能力、嚴格的消毒和過濾系統、自動化控制和監測、能源效率和可持續性以及易于維護和清潔等特點和優勢。這些設備在半導體制造、平板顯示器制造、光電子器件制造等領域發揮著重要作用。